آسان نیوز سایت خبری تحلیلی آسان نیوز
هواوی چگونه میخواهد با اتکا به فناوریهای موجود DUV، محدودیتهای غرب را دور بزند و به لیتوگرافی پیشرفته دست یابد؟
در بحبوحه تحریمهای شدید غرب علیه چین و محدودیت دسترسی به ابزارهای ساخت تراشه فوقپیشرفته، شرکت هواوی (Huawei) با ثبت یک پتنت جدید در حوزه لیتوگرافی، بار دیگر عزم خود را برای رسیدن به خودکفایی در صنعت تراشه نشان داد. این پتنت، روشی جاهطلبانه را برای تولید پردازنده در کلاس ۲ نانومتر بدون استفاده از ماشینآلات پیشرفته EUV (نور فرابنفش فرین) شرکت ASML توصیف میکند.
لیتوگرافی ۲ نانومتری با ابزارهای DUV
پتنت ثبت شده توسط هواوی که در سال ۲۰۲۲ به ثبت رسیده است، بر روش پیشرفتهای به نام “الگویگذاری چهارترازی خودهمتراز” (SAQP) متکی است. هسته این روش، بهینهسازی حداکثری ابزارهای موجود DUV (نور فرابنفش عمیق) است؛ تجهیزاتی که علیرغم تحریمها، همچنان برای چین در دسترس هستند.
هدف اصلی این طرح، رسیدن به فاصلهی فلزی (Metal Pitch) ۲۱ نانومتر است. دستیابی به این معیار، عملاً تراشه تولید شده را در سطح لیتوگرافی ۲ نانومتری قرار میدهد؛ سطحی که در حال حاضر انحصاراً در اختیار غولهایی مانند TSMC و سامسونگ است که وابستگی کامل به فناوریهای EUV دارند.
جهش مستقیم از N+3 به ۲ نانومتر
هواوی قصد دارد با این فناوری، یک جهش بزرگ را در نقشه راه تولید پردازندههای خود ایجاد کند. این شرکت پیشتر تراشه Kirin 9030 را بر پایه لیتوگرافی N+3 شرکت SMIC تولید کرده بود. اکنون، با اعمال فشار حداکثری بر زیرساخت DUV و استفاده از روش SAQP، هدف نهایی، پرش مستقیم به نسل ۲ نانومتر است تا جای خالی تجهیزات ممنوعه EUV پر شود.
چالشها و تردیدها بر سر راه تولید انبوه
با وجود ثبت این پتنت انقلابی، کارشناسان این صنعت نسبت به امکان تولید انبوه آن محتاط هستند. در حالی که روش SAQP میتواند در سطح آزمایشگاهی موفق باشد، تولید گسترده تراشههایی با این ظرافت و در این ابعاد با اتکا به DUV، میتواند با چالشهایی جدی نظیر:
-
افت بازده و افزایش ضایعات (نقصها)
-
افزایش پیچیدگی فرآیند تولید
-
هزینههای بسیار سنگین
همراه باشد. این عوامل همان دلایلی بودند که شرکتهای پیشرو را برای لیتوگرافیهای ۳ نانومتر و پایینتر به سمت سرمایهگذاری هنگفت در فناوری EUV سوق دادند.
با این حال، ثبت این پتنت فراتر از یک طرح فنی است؛ این سند نشاندهنده اراده جدی هواوی و تعهد کشور چین برای دستیابی به فناوریهای پیشرفته و تحقق خودکفایی، حتی در مواجهه با شدیدترین محدودیتهای جهانی است.
